Fraunhofer-Geschäftsbereich Reinigung
Die Photonik ist die Gemeinsamkeit physikalischer, chemischer und biologischer Technologien zur Erzeugung, Verstärkung, Übertragung, Messung und Nutzbarmachung von Licht. Anwendung findet sie bei der Entwicklung von Komponenten und Systemen zur Bildverarbeitung, in der Mess-, Kommunikations- und Informationstechnik und auf den Gebieten der Energie-, Medizin- und Nanotechnologie. Zunehmend werden in der Photonikindustrie Bauteile benötigt, die absolut frei von Partikeln und filmbildenden Produktionsrückständen sind. Solche Verunreinigungen entstehen jedoch während der Herstellung zwangsläufig. Die Reinigungsverfahren in der Photonikindustrie reichen von der wässrigen Reinigung über Lösmittel-, Laser- und Plasma- bis hin zur Ultra- und Megaschallreinigung. Für Bauteile der Photonikindustrie gibt es heute sogar speziell entwickelte Reinigungsprozesse und -anlagen, die bis zu acht Reinigungsstufen bewältigen.
Der Bedarf an Halbleitertechnologien, LEDs, Lasertechnik, Photovoltaikanlagen und Informationstechnik wächst stetig. Damit einher geht der erhöhte Bedarf an Reinigunglösungen, denn nur mit höchstem Reinheitsgrad können einwandfreie optische Geräte und Komponenten angeboten werden. Verunreinigungen hingegen führen zu Leistungs- und Datenverlust der eingeschränkter Verwendungsmöglichkeit. Daher ist es dringend erforderlich, auf das jeweilige Bauteil abgestimmte Reinigungsverfahren und -prozesse zu entwickeln und anzuwenden.
